적용 사례: RLE20 간섭계는 Vistec Lithography의 최신e-beam 툴의 성능을 개선해줍니다 (pdf)
ファイルサイズ : 626kB
言語: 한국어
ダウンロードセンター: H-5225-0742
Vistec Lithography(이전 Leica Microsystems)의VB300 e-beam 리소그라피 툴은 1993년에 도입되어 큰 성공을 거둔 VB6 시리즈를 발전시킨 제품입니다. 새로운 툴을 설계함에 있어, Vistec은소음을 일으키는 위치 오차를 줄이면 툴 성능이 크게 개선된다는 점을 발견했습니다. 향상된 기계적 강도와 Renishaw RLE20 차동 간섭계 기반 엔코더 시스템의 통합을 통해 이러한오차가 이제 3 nm 미만으로 감소할 것으로 예상됩니다.
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