RLU (光ファイバ送出機構内蔵のコンパクトレーザーユニット)
レニショーのレーザーエンコーダは、変位干渉計の究極のパフォーマンスと、従来のテープスケールまたはガラススケールを使ったエンコーダのような取り付けやすさを兼ね備えています。
RLE システムは、位置決めフィードバックのために特別に設計した、レニショー独自の最先端ホモダインレーザー干渉計システムです。RLE システムは、RLU レーザーユニットと RLD10 ディテクタヘッドで構成されます。
1 軸 あるいは 2 軸構成が可能なレーザーユニットです。HeNe (ヘリウムネオン) レーザー光源、安定化電子回路、光ファイバ送出機構、および軸の位置決めフィードバック回路が組み込まれています。
RLD ディテクタヘッドは光学測定システムの中核を成すものです。干渉計光学部品、レニショー独自のマルチチャンネル干渉縞検出機構およびビームステアラを内蔵しています。レニショーでは、3 種類の干渉計構成 (RLD10 平面鏡、RLD10 反射鏡、RLD10 ディファレンシャル) に加え、干渉計を内蔵しない RLD10 構成もご用意しております。
特徴とメリット
RLU10 または RLU20 レーザーと RLD ディテクタヘッドの組合せ:
- シンプルなシステム構成 - レニショー独自の光ファイバ送出システムを採用
- 高速アライメント - RLD ディテクタヘッドにより、測定軸にレーザービームを直接取付け可能
- コンパクトで簡単セットアップ - 最小の取付け領域で最短時間で取付け可能
レニショーのエンコーダを使用することで、顧客が求める仕様を常に上回り続けています。顧客には、クラスで最高の経験を提供できるよう努めています。我々が成功を収められている理由のひとつは、レニショーのような企業が提供してくれる技術革新にあります。
Aerotech 社 (米国)
RLU10 レーザーユニット
RLU10 は、1 時間以上の±50ppb のレーザー周波数安定性を誇ります。大気中測定の大半に適します。
RLU10 の概要
| ファイバ長 | 3m または 6m* |
| 軸数 | 1 軸または 2 軸* |
| レーザー光源 | クラス 2 HeNe (ヘリウムネオン) |
| 出力 | アナログまたはデジタル |
| 速度 | 最高 2m/s** |
*出荷時設定
**バージョンまたは分解能に依存
RLU10 の性能
レーザー周波数安定性 (1 分) | ‹±10ppb |
レーザー周波数安定性 (1 時間) | ‹±50ppb |
レーザー周波数安定性 (8 時間) | ‹±50ppb |
真空波長安定性 (3 年以上) | ±0.1ppm |
XY ステージでの使用
大気環境下での、XY ステージ測定に最適なレーザーエンコーダをお探しですか。RLU10 レーザーユニットと 2 個の RLD10-A3-P9 (RLD10 平面鏡干渉計) で構成される RLE10-DX-XG システムをご検討ください。
RLU20 レーザーユニット
RLU20 は、1 時間以上の±2ppb のレーザー周波数安定性を誇ります。真空環境の大半で、極めて優れた測定パフォーマンスを発揮します。
RLU20 の概要
| ファイバ長 | 3m のみ* |
| 軸数 | 1 軸または 2 軸* |
| レーザー光源 | クラス 2 HeNe (ヘリウムネオン) |
| 出力 | アナログまたはデジタル |
| 速度 | 最高 2m/s** |
*出荷時設定
**バージョンまたは分解能に依存
RLU20 の性能
| レーザー周波数安定性 (1 分) | ‹±1ppb |
| レーザー周波数安定性 (1 時間) | ‹±2ppb |
| レーザー周波数安定性 (8 時間) | ‹±20ppb |
| 真空波長安定性 (3 年以上) | ±0.1ppm |
ディファレンシャル測定での使用
真空環境下での、ディファレンシャル測定に最適なレーザーエンコーダをお探しですか。RLU20 レーザーユニットと 2 台の RLD10-X3-DI ディファレンシャル干渉計で構成される RLE20-DX-XP システムをご検討ください。
RLE システムの構築
レニショーレーザーヘッドを変位干渉計として動作させるには、用途に適したヘッドと組み合わせる必要があります。RLE システムの構築時には、下記をご検討ください。
- レーザー光源 (RLU10 か RLU20)
- ファイバ長 3m または 6m (RLE10 のみ)
- 校正証明書 (オプション、有償発行)
- 平面鏡または反射鏡のターゲット光学部品
- 各軸に対する RLD ディテクタヘッドのタイプ
- 各軸のビーム出力方向 (ディファレンシャル干渉計ヘッドの場合は不要)
システムの構築や見積りには、RLE パーツ番号ジェネレータをご活用ください。
FAQ
RLE システムで達成可能な最高分解能は?
RPI30 パラレルインターフェースと組み合わせて使用する場合で、1m/s の速度で 38.6pm です。
RLE システムの校正証明書を発行してもらえますか?
はい、新しいシステムの発注時にご用命ください。ただし、有償での対応です。
平面鏡か反射鏡のどちらを使用したらよいですか?
それぞれ独自の利点があるため、用途に応じて異なります。平面鏡は、XY ステージでの使用に適しています。反射鏡は、平面鏡よりも角度回転に対する公差が大きく、通常、直線軸に使用します。
RLE システムには、どのミラーが推奨されますか?
用途に合わせた幅広いラインナップを取りそろえています。また、カスタムミラーをご希望の際は、平面鏡とミラーマウントのデータシートを参考にしてください。
補足資料
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データシート: RLU10レーザーユニット
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データシート: RLU20レーザーユニット
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データシート: データシート - RLE システムの性能
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ケーススタディ: モーションプラットフォームに採用された UHV 対応光学式エンコーダ
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ケーススタディ: ケーススタディ 超高精度モーションコントロールの鍵となるエンコーダ
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ケーススタディ: ヴィステックリソグラフィー(Vistec Lithography)、RLE20干渉計システムにより最新電子ビームの装置パフォーマンスを向上
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Data sheet: Traceability chart: RCU10, XC-80, RLE and HS20 [en]
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