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RLU－輕巧型雷射裝置，配備光纖傳輸系統

Renishaw 雷射裝置提供位移干涉儀的極致效能，同時兼具傳統鋼帶和玻璃光學尺編碼器易於安裝的優點。

RLE 系統為獨特先進零差雷射干涉儀系統，專為位置回饋應用所設計。各 RLE 系統由一個 RLU 雷射裝置及一個或兩個 RLD10 檢測頭組成，使用機型取決於特定應用的需求。

RLU 雷射裝置提供單軸或雙軸配置，包括（氦／氖）雷射光源、穩定化電子元件、光纖發射和軸位置回饋電子元件。

RLD 檢測頭是光學量測系統的核心所在，其中包含干涉儀光學鏡組、獨特的多通道條紋檢測系統和光束對焦機制。Renishaw 提供三種干涉儀配置（RLD10 平面鏡、RLD10 反射鏡及 RLD10 差分）外加 RLD10 無內部干涉儀。

特性和優點

結合 RLU10 或 RLU20 雷射與適合應用的 RLD 檢測頭可享有：

  • 簡單的系統架構－運用 Renishaw 獨特的光纖傳輸系統
  • 快速準直－RLD 檢測頭可讓雷射光束直接架設於量測軸
  • 輕巧且易於設定－最小的系統體積和安裝時間

我們利用 Renishaw 編碼器持續超越客戶規格。我們嘗試向客戶提供同類最佳體驗，而 Renishaw 等公司的技術進展成果，是我們持續成功的原因之一。

Aerotech（美國）

RLU10 雷射

RLU10 雷射可在一小時期間達到 ±50 ppb 的雷射頻率穩定性，為大多數「空中」應用提供合適的效能水準。

RLU10 概述

光纖長度3 m 或 6 m*
軸數單軸或雙軸*
雷射光源第 2 級氦／氖
輸出類比／數位正交
速度最高 2 m/s**

* 原廠配置
** 視版本／解析度而定

RLU10 效能

雷射頻率穩定性（1 分鐘）

‹±10 ppb

雷射頻率穩定性（1 小時）

‹±50 ppb

雷射頻率穩定性（8 小時）

‹±50 ppb

真空波長穩定性（3 年間）

±0.1 ppm

XY 雙軸平台應用

您是否在為「空中」環境內的 XY 雙軸平台應用尋找雷射光學尺？RLE10-DX-XG 系統是此類應用的熱門選擇，運用 RLU10 雷射結合兩部 RLD10-A3-P9 這類 RLD10 平面鏡干涉儀。

RLU20 雷射

RLU20 雷射可在一小時期間達到 ±2 ppb 的雷射頻率穩定性，為大多數的真空應用提供極致的量測效能。

RLU20 概述

光纖長度僅限 3 m*
軸數單軸或雙軸*
雷射光源第 2 級氦／氖
輸出類比／數位
速度最高 2 m/s**
* 原廠配置
** 視版本／解析度而定

RLU20 效能

雷射頻率穩定性（1 分鐘）‹±1 ppb
雷射頻率穩定性（1 小時）‹±2 ppb
雷射頻率穩定性（8 小時）‹±20 ppb
真空波長穩定性（3 年間）±0.1 ppm

差分量測應用

您是否正在為真空環境內的差分量測應用尋找雷射光學尺？RLE20-DX-XP 系統為此類應用的熱門選擇，運用 RLU20 雷射結合兩部 RLD10-X3-DI 差分干涉儀。

配置 RLE 系統

為了作為位移干涉儀使用，Renishaw 雷射裝置必須搭配使用適合應用的檢測頭。定義您的 RLE 系統時，應考量下列選項：

  • 雷射光源（RLU10 或 RLU20）
  • 光纖長度 3 m 或 6 m（僅 RLE10）
  • 校正證書（另外加購）
  • 平面鏡或反射鏡標靶光學鏡組
  • 各軸的 RLD 檢測頭類型
  • 各軸的光束輸出方向（不適用於差分）

您可利用 RLE 零件訂貨號產生器識別適合應用的系統，以便索取報價或下單訂購。

探索我們一系列的干涉雷射尺如何在線性位置回饋提供最高精度。

常見問題集

RLE 系統可達到的最高解析度為何？

RLE 系統結合 RPI30 平行介面，可在 1 m/s 達到 38.6 皮米的解析度。

是否能為我的 RLE 系統提供校正證書？

可以，可在訂購新系統時指定。請注意，本服務需另外收費。

我是否應在應用中使用平面鏡或反射鏡目標？

目標的選擇端視應用類型而定，因為各有其優勢。平面鏡較適合 XY 雙軸平台應用。反射鏡比平面鏡更能耐受角度旋轉，因此通常用於線性軸上。

Renishaw 建議使用何種鏡組搭配 RLE 系統？

Renishaw 提供一系列的鏡面與光學鏡組，配合您的應用需求。我們的平面鏡與反射鏡固定架規格資料表包含採購客製化鏡組的相關資訊。

附加資源

 

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