超高真空光學尺
維持潔淨的高度真空環境並盡量減少放氣
Renishaw UHV 相容光學尺系列的所有產品，都適用於各種科學、半導體與其他真空壓力達 10-10 Torr 的先進工業應用。
操作的基本原理與我們的同級標準大氣產品相同，但 UHV 版本的設計可消除不通風的空間，因此可特別以無塵、真空相容材料與黏著劑製造而成。用於 UHV 環境的產品，是由獨立專業測試機構檢驗其適合性，其中包括殘留氣體分析 (RGA) 頻譜測試（可依要求提供）。
系列產品包含增量式、絕對式及開放式光學尺。
市面上有許多的高品質光學尺產品，但是與真空應用相容的產品並不多。Renishaw TONiC UHV 光學尺提供優異的效能及可靠性，是我們最理想的選擇。
南韓 VAD Instruments
增量式 UHV 光學尺
TONiC™ UHV 開放式光學尺系統
TONiC UHV 光學尺是特別改造版的 TONiC 光學尺系列產品。其中提供：
- 相容於各種光學尺：
- 線性：RTLC 不鏽鋼光學尺、RKLC 精細型不鏽鋼光學尺、RELM ZeroMet 光學尺、RSLM 不鏽鋼光學尺。
- 旋轉（角度）：RESM 不鏽鋼環、REXM 超高精度不鏽鋼環。
絕對式 UHV 光學尺
RESOLUTE™ UHV 開放式光學尺系統
RESOLUTE UHV 光學尺是特別改造版的 RESOLUTE 光學尺系列產品。其中提供：
- BiSS® C 及 Panasonic 序列介面。
- 相容於各種光學尺：
- 線性：RTLA 不鏽鋼光學尺、RELA ZeroMet 光學尺、RSLA 不鏽鋼光學尺。
- 旋轉（角度）：RESA 不鏽鋼環、REXA 超高精度不鏽鋼環。
請參閱 RESOLUTE 絕對式 UHV 光學尺簡介
RESOLUTE UHV 光學尺的 RGA 結果
Renishaw 提供各 RESOLUTE 真空系統使用的 RGA (殘留氣體分析) 資料。顯示真空環境上的編碼器系統效果。
RGA 結果
測試排程
四極質譜儀 (AccuQuad 200 RGA) 用於收集 RGA (殘留氣體分析) 資料。燃燒室壓力使用離子真空計 (G8130) 測量。經過系統首次調節後，將連同背景光譜和測試燃燒室中的總壓力一起記錄。
元件置於真空系統中 (0.0035 m3)，將利用 KJL Lion 802 (800/s) 雙級離子幫浦和 Divac 隔膜幫浦於環境溫度下持續抽吸 24 小時，在背景掃描後將再次記錄測試燃燒室中的總壓力。若系統壓力高於 5 x 10-9 mbar，則將在 120 C 溫度下烘烤測試件持續 48 小時。之後將先讓系統於環境溫度下冷卻，再進行最終質譜儀與總壓力量測。最終 RGA 掃描如下所示。
備註：
不應期待這些反覆測試的結果會完全相同，因為 RGA 資料會因真空系統的環境、規格和效能而有不同。然而，殘留氣體分析結果測試顯示並無明顯污染可歸因於 RESOLUTE UHV，且該 UHV 條件可在使用此產品時達到。
